摘要：采用雙輝等離子技術(shù)在機電傳動軸表面制備了SiC/Ta涂層,研究了反應氣體四甲基硅烷對涂層顯微組織和耐磨性能的影響。結(jié)果表明,不同H_2/TMS流量比例的復合涂層截面都為表面SiC層和Ta過渡層的雙層結(jié)構(gòu)特征,涂層截面厚度介于4.8~6μm,當TMS流量至1.5 sccm時,SiC涂層和Ta過渡層較為致密,層間結(jié)合良好;4Cr13基體物相主要為Fe-Cr,而不同H2/TMS流量比例的復合涂層處Fe-Cr衍射峰外,還出現(xiàn)了TaC/SiC、Ta2C和Ta2C/SiC衍射峰;基體的磨痕寬度、深度和比磨損率分別為860μm、15.91μm和10^2×10^-5 mm^3/N·m,不同H2/TMS流量比例復合涂層的磨痕寬度、深度和比磨損率都要低于基體,且TMS流量為1.5 sccm時,復合涂層磨痕寬度、深度和比磨損率最小。通過雙輝等離子技術(shù)在機電傳動軸表面制備SiC復合涂層有助于改善基體的耐磨性能,且當TMS流量為1.5 sccm時復合涂層的結(jié)構(gòu)較為致密、摩擦系數(shù)較低,具有相對更好的耐磨性能。