碳納米尖端形成的理論分析

作者:黨純 王廷志 淮陰工學院計算科學系 江南大學理學院 江蘇淮安

摘要:用CH4,H2和NH3為反應氣體,利用等離子體增強熱絲化學氣相沉積在沉積有碳膜的Si襯底上制備了碳納米尖端。用原子力顯微鏡和微區(qū)Raman光譜儀對碳膜進行了表征,結果表明,碳膜是粗糙不平的非晶碳膜。用掃描電子顯微鏡研究了不同條件下生長的碳納米尖端,結果表明,碳納米尖端的形成與離子的轟擊有關。根據(jù)實驗結果,利用離子沉積和濺射等有關的理論建立了碳納米尖端形成的三維理論模型,并利用該模型對實驗結果進行了解釋,它將對控制碳納米尖端的生長和應用研究有很大的意義。

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