BF_2~+離子注入時磷雜質(zhì)離子污染控制的研究

作者:彭坤 林大成 昆明理工大學(xué)機(jī)電學(xué)院 中芯國際集成電路制造有限公司(天津) 昆明 中芯國際集成電路制造有限公司(天津)

摘要:同一臺離子注入機(jī)B,P離子交叉注入,殘留的磷和BF3分解產(chǎn)生的F生成50PF+,成為難控隱患。研究指出,實(shí)際注入晶圓的平均質(zhì)量數(shù),呈以目標(biāo)離子質(zhì)量數(shù)為中心的正態(tài)分布;49BF2+與50PF+因質(zhì)量數(shù)接近而存在可能的重疊分布區(qū),這是出現(xiàn)磷污染的原因;指出改善質(zhì)量分析器的控制精度,可在線調(diào)控以避免磷污染。通過比較發(fā)現(xiàn),當(dāng)質(zhì)量分析器設(shè)定為49±0.5且注入高束流達(dá)800μA時,離子注入機(jī)不能偵測到臨近目標(biāo)質(zhì)量數(shù)的雜質(zhì)離子。離子注入機(jī)經(jīng)80 h注入31P+后再交叉注入的老化實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備,當(dāng)引弧電流達(dá)3 100μA時,電性測試發(fā)現(xiàn),質(zhì)量分析器設(shè)定為49±0.3(質(zhì)量分辨率m/Δm=169.3)的樣品無磷污染。進(jìn)一步研究了多重老化因素疊加效應(yīng),經(jīng)同樣的老化實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)備、引弧電流為3 100μA且注入束流為800μA時,注入劑量為2.2×1015的49BF2+,當(dāng)質(zhì)量分析器嚴(yán)控為49±0.3,經(jīng)SI MS(secondaryion mass spectroscopy)分析二個樣品均未發(fā)現(xiàn)磷的高能峰。改進(jìn)質(zhì)量分析器控制設(shè)定數(shù)值的解決方案經(jīng)生產(chǎn)驗(yàn)證有效,無需Frederic Sahores(2002 IEEE)的如增加清洗頻率或分離子...

注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社

微細(xì)加工技術(shù)

統(tǒng)計源期刊 下單

國際刊號:1003-8213

國內(nèi)刊號:43-1140/TN

雜志詳情

服務(wù)介紹LITERATURE

正規(guī)發(fā)表流程 全程指導(dǎo)

多年專注期刊服務(wù),熟悉發(fā)表政策,投稿全程指導(dǎo)。因?yàn)閷W⑺詫I(yè)。

保障正刊 雙刊號

推薦期刊保障正刊,評職認(rèn)可,企業(yè)資質(zhì)合規(guī)可查。

用戶信息嚴(yán)格保密

誠信服務(wù),簽訂協(xié)議,嚴(yán)格保密用戶信息,提供正規(guī)票據(jù)。

不成功可退款

如果發(fā)表不成功可退款或轉(zhuǎn)刊。資金受第三方支付寶監(jiān)管,安全放心。