Cl摻雜γ-CuI晶體生長(zhǎng)及閃爍性能的研究
作者：張蕾; 劉小林; 郝書童; 顧牡; 李乾利; 黃世明; 張娟楠 同濟(jì)大學(xué)物理科學(xué)與工程學(xué)院; 上海市特殊人工微結(jié)構(gòu)材料與技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 上海200092; 上海大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院; 上海200444
摘要：采用溶劑蒸發(fā)技術(shù),輔以氬保護(hù)氣氛,成功獲得厘米級(jí)氯摻雜γ-CuI透明單晶。研究了氯摻雜對(duì)晶體生長(zhǎng)溶液的穩(wěn)定性、晶體結(jié)構(gòu)及發(fā)光性能的影響。通過引入氬氣氛,摻氯生長(zhǎng)液及晶體的氧化問題得到了極大改善。X射線激發(fā)發(fā)射光譜表明,γ-CuI:Cl晶體的超快近帶邊發(fā)射得到顯著增強(qiáng),光輸出約為PbWO4晶體的89%,深能級(jí)發(fā)射強(qiáng)度也受到極大抑制。并且快成分的衰減時(shí)間達(dá)到亞納秒量級(jí)。實(shí)驗(yàn)結(jié)果均表明γ-CuI:Cl單晶具有較好的結(jié)晶性和光學(xué)性能,有望應(yīng)用于超高輻射檢測(cè)和超快計(jì)數(shù)率成像領(lǐng)域。
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人工晶體學(xué)報(bào)雜志
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